Des chercheurs de MIT ont publié les résultats de leurs travaux portant sur l’autoassemblage de molécules pour remplacer les méthodes photolithographiques classiques pour fabriquer une puce.
Pour être toujours plus petit
Le but serait de pouvoir continuer à utiliser des finesses de gravure plus importantes sans être restreints par les limites liées à l’utilisation d’un rayon. L’une des hypothèses envisagées est la lithographie par faisceau d’électrons. Néanmoins, cette technique est aujourd’hui lente et chère.
Méthode prometteuse
Les universitaires se penchent donc aussi sur une méthode qui utilise un faisceau d’électrons uniquement pour créer des balises sur le die et qui va servir de point d’ancrage aux copolymères (composés de deux polymères) que l’on jette sur la puce et qui vont s’autoassembler pour constituer le motif du masque.
La raison de ce phénomène est simple. Les deux polymères associés cherchent à se séparer les uns des autres, mais sont inévitablement collés. Dans ce processus de tentative de séparation, les molécules vont s’organiser en un motif prévisible, en fonction de la longueur de la chaîne de copolymère, des proportions des deux polymères et la taille et la position des balises.
Les scientifiques avouent qu’il faudra encore des années avant de pouvoir utiliser cette méthode à grande échelle.
Des chercheurs de MIT ont publié les résultats de leurs travaux portant sur l’autoassemblage de molécules pour remplacer les méthodes photolithographiques classiques pour fabriquer une puce.
Pour être toujours plus petit
Le but serait de pouvoir continuer à utiliser des finesses de gravure plus importantes sans être restreints par les limites liées à l’utilisation d’un rayon. L’une des hypothèses envisagées est la lithographie par faisceau d’électrons. Néanmoins, cette technique est aujourd’hui lente et chère.
Méthode prometteuse
Les universitaires se penchent donc aussi sur une méthode qui utilise un faisceau d’électrons uniquement pour créer des balises sur le die et qui va servir de point d’ancrage aux copolymères (composés de deux polymères) que l’on jette sur la puce et qui vont s’autoassembler pour constituer le motif du masque.
La raison de ce phénomène est simple. Les deux polymères associés cherchent à se séparer les uns des autres, mais sont inévitablement collés. Dans ce processus de tentative de séparation, les molécules vont s’organiser en un motif prévisible, en fonction de la longueur de la chaîne de copolymère, des proportions des deux polymères et la taille et la position des balises.
Les scientifiques avouent qu’il faudra encore des années avant de pouvoir utiliser cette méthode à grande échelle.
Source: David Civera – Presence-PC.com – MIT
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